ЛикбеZ

Кремний без прогресса: как деградировала российская микроэлектроника Доклад предприятия «Кремний Эл» на форуме «Микроэлектроника» стал холодным душем для отрасли, где годами рапортуют о «прорывах». Завод работает на 100-мм пластинах — уровне конца 90-х, а парк оборудования напоминает музей технологий. Главный фотолитограф — Canon 1997 года, ионные имплантаторы — китайские, измерительные приборы — либо старые американские, либо новые, но с серыми поставками. Российских аналогов почти нет: белорусский «Планар» и отечественный ЗНТЦ формально предлагают решения, но их машины не работают с нужным диаметром пластин. Такое положение — не частный случай, а системный результат деградации цепочки производства, разрыва с глобальными поставщиками и оттока инженерных кадров. Попытки импортозамещения буксуют: ни фотолитографы, ни установки нанесения фоторезиста в России не дотягивают до базового уровня отрасли двадцатилетней давности. Пока на Западе осваивают 3-нанометровый техпроцесс, Россия вынуждена держать на ходу установки конца прошлого века, молясь, чтобы не вышел из строя последний рабочий Canon.