НИИТМ принял участие в Российском форуме «Микроэлектроника 2026» Российский форум «Микроэлектроника» в 12-й раз собрал специалистов микро- и радиоэлектронной отрасли. АО НИИТМ (ГК «Элемент», MOEX:ELMT) выступило партнёром ключевого отраслевого события и приняло участие в выставочной, деловой и научной программах форума. Эксперты НИИТМ выступили на заседании секции №9 с двумя докладами. В первом из них были отражены основные результаты разработки новых видов технологического оборудования, включая уже завершенные опытно-конструкторские работы по созданию кластерных систем плазмохимического травления и осаждения, а также текущие проекты: разработку двух установок химического осаждения из газовой фазы (одна – для пленок вольфрама, вторая – для пленок SiO₂/SiON/SiONGe), изготовление среднетокового и высокоэнергетического оборудования ионной имплантации, производство вертикальной установки высокотемпературного отжига пластин. Во втором выступлении была раскрыта тема разработки современного вакуумного оборудования для нанесения тонких плёнок различных материалов методами физического распыления. В рамках доклада были приведены основные методы PVD, применяемые в установках разработки и производства НИИТМ, и на примере конкретных видов оборудования магнетронного распыления и электронно-лучевого испарения продемонстрированы их основные технические характеристики и ключевые преимущества. ❗️ Мы в Макс | Читать ВК, ТenСhat, РБК Компании | Смотреть на Дзен | Смотреть на Rutube | Поддержать канал