Китай успешно создал рабочий прототип ключевой установки для производства передовых чипов — EUV-литографа. Эта технология, ранее доступная только нидерландской компании ASML и находящаяся под контролем США, необходима для создания процессоров с техпроцессом 5 и 3 нанометра, используемых в смартфонах, ИИ и военной технике. Из-за санкций Поднебесная не могла закупить это оборудование. В ответ был инициирован масштабный национальный проект по разработке собственного аналога. Китай привлёк десятки ведущих учёных и около сотни инженеров, в том числе бывших специалистов ASML, предложив им высокое вознаграждение, жильё и прямой контакт с руководством страны. По данным инсайдеров, прототип уже генерирует необходимое излучение и вскоре сможет печатать реальные чипы. Прорыв может подорвать монополию ASML уже в ближайшие годы, что способно привести к росту инноваций, ускорению технологического прогресса и снижению цен на оборудование и чипы по всему миру. Подписаться | Предложить новость