В России разработали проект литографа для ускоренного выпуска чипов. Ключевой элемент установки — мультикатод, позволяющий формировать сразу множество электронных лучей вместо одного. По расчетам разработчиков, это сократит время экспонирования кремниевой пластины с полутора-двух недель до 5–7 минут, что примерно в 3 тысячи раз быстрее традиционных однолучевых систем. Как рассказал главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов, технология мультикатода уже создана и прошла практические испытания. По его словам, в отличие от зарубежных решений, где один электронный луч разделяется сложной системой зеркал и затворов, российская разработка формирует множество независимых источников электронов на единой подложке, что должно снизить стоимость оборудования и требования к инженерной инфраструктуре. Разработчики рассчитывают создать первый опытный образец литографа примерно через три года. Предполагается, что технология сможет использоваться для производства микросхем с различными технологическими нормами — от 350 до нескольких нанометров. #Россия #литограф #микросхемы Подпишись