Передовая EUV-литография впервые использована для изготовления спиновых кубитов Бельгийский инновационный центр imec представил первое устройство на спиновых кубитах-квантовых точках, созданное с помощью высокоапертурной EUV-литографии (High-NA EUV). Эта технология, готовящаяся к внедрению в полупроводниковой индустрии для производства процессоров с нормами менее 2 нм, позволила добиться высокой точности и уменьшить вариативность параметров квантовых точек. Устройство, построенное на КМОП-совместимой платформе, с минимальным расстоянием между кубитами в 6 нм, открывает путь к интеграции миллионов кубитов на одном чипе. Это достижение знаменует собой важный шаг к масштабированию многокубитных систем, поскольку квантовые чипы начинают использовать те же производственные технологии, что и передовые кремниевые процессоры.