Плазма является дополнительным источником воздействия на образец при испытании материалов электронным пучком. К таким выводам пришли ученые из НИЦ «Курчатовский институт» и МФТИ по итогам экспериментов на сильноточном электронном ускорителе «Кальмар». Анна Смирнова, аспирантка Физтех-школы природоподобных, плазменных и ядерных технологий им. И. В. Курчатова МФТИ. – В процессе “выстрела” электронами диодный зазор заполняется плазмой, истекающей с электродов. Результаты экспериментальных работ демонстрируют, что плазма замыкает диодный зазор и концентрируется в центральной области вакуумной камеры на временах намного бОльших, чем длительность электронного пучка. Данное наблюдение заставляет задуматься, может ли эта плазма значимо воздействовать на мишень? Это и сподвигло нас на более подробный анализ этого явления. Из-за влияния плазмы воздействие на образец может продолжаться и после окончания импульса пучка электронов. Воздействие на образец сильноточным электронным пучком — один из способов испытания новых материалов на устойчивость к мощным кратковременным нагрузкам. Результаты работы помогут точнее интерпретировать результаты таких испытаний. Подробнее Исследование опубликовано в журнале Physics of Plasmas. Работа поддержана Российским научным фондом.