Китайский стартап собрал прототип источника излучения для EUV-литографии Китайский стартап Langdao Silex представил на Китайской международной промышленной выставке в Шанхае прототип источника экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения — «сердца» передовых литографических систем. По словам представителя компании, установка на 90% состоит из компонентов местного производства. Ее создание стало важным, пусть и начальным этапом в стремлении Пекина добиться полной независимости в производстве оборудования для выпуска передовых микросхем. https://hightech.plus/2026/10/19/kitaiskii-startap-sobral-prototip-istochnika-izlucheniya-dlya-euv-litografii