Китай начал серийное производство DUV-литографов для выпуска 7-нм чипов Китай наладил серийное производство собственных установок для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) с иммерсионной технологией и планирует в 2026 году поставить первые машины крупнейшим отечественным производителям чипов, включая SMIC, Hua Hong и CXMT. Иммерсионная DUV-литография позволяет выпускать чипы по нормам 28 нм за одну экспозицию, а при многократной литографии — и более сложные 7-нм микросхемы. За 2026–2027 годы Китай планирует построить не менее 25 собственных литографов. Это станет важным шагом к снижению зависимости от нидерландской ASML и ослабит эффект экспортных ограничений со стороны США. https://hightech.plus/2026/07/28/kitai-nachal-seriinoe-proizvodstvo-duv-litografov-dlya-vipuska-7-nm-chipov