Китайский стартап готов к серийному выпуску двумерных проводников без технологии EUV Основной способ производства современных микросхем — фотолитография в экстремальном ультрафиолете (EUV). Китай, отрезанный от этой технологии экспортными ограничениями, столкнулся с серьезным препятствием на пути к развитию собственной полупроводниковой промышленности. Однако шанхайский стартап «Юаньцзивэй» полагает, что без EUV можно обойтись. Компания представила первую в мире пилотную линию для производства двумерных полупроводников — технологии, которая использует принципиально иные материалы и методы. https://hightech.plus/2026/07/13/kitaiskii-startap-gotov-k-seriinomu-vipusku-dvumernih-provodnikov-bez-tehnologii-euv