Уникальную установку планируется создать для преодоления технологического порога оптической литографии в современной микроэлектронике на базе синхротрона СКИФ под Новосибирском, запуск которого планируется в 2026 году. Она позволит создать технологию для производства российских процессоров нового уровня. Сибирский кольцевой источник фотонов (СКИФ) – первый в России и самый мощный в мире источник синхротронного излучения четвертого поколения. Установка позволит получать сверхточные данные о структуре и поведении вещества. «Ожидается, что реализация проекта позволит отечественной промышленности перескочить технологический предел в 28 нанометров и значительно продвинуться в направлении создания суверенной технологии производства массовых российских процессоров топ-уровня», – рассказали в Новосибирском госуниверситете. На базе СКИФ планируется создать специализированную рентгеновскую станцию для работы литографического оборудования нового типа, поскольку литография – ключевая технология производства микросхем. Рентгеновская литография позволит формировать сверхминиатюрные структуры, обеспечивая высокое разрешение при сохранении производительности и удешевлении, отметили в НГУ. Предполагается, что опытный образец литографа будет создан на базе СКИФ, где можно будет детально изучить физику процессов и отработать технологические параметры. Аналогичное оборудование планируется параллельно разворачивать на синхротроне в Зеленограде уже для целей отладки промышленного использования.