Chinogram

Очередной успех китайского реверс-инжиниринга По данным источников Reuters, команда из Шэньчжэня завершила создание рабочего прототипа литографической установки с экстремальным ультрафиолетовым излучением (EUV) в начале 2025 года. По словам источников, Китайская установка EUV, созданная бывшими инженерами нидерландской компании ASML, проходит тестирование, но пока не произвела работоспособных чипов, сообщают источники. Правительство планирует выпустить работоспособные чипы к 2028 году, но источники считают более вероятным 2030 год. https://www.reuters.com/world/china/how-china-built-its-manhattan-project-rival-west-ai-chips-2025-12-17/ #синоптимист